高純水設備（超純水設備）是由多臺水處理設備按工藝設計組合而成。最典型的工藝為：雙級反滲透+EDI和雙級反滲透+混合床工藝。高純水設備廣泛用于半導體、電子、精細化工、電廠、醫藥等行業。水處理工藝主要由預處理、反滲透、EDI或混合床、后級精處理幾部分組成，根據不同水質要求，采用不同工藝，終端產水電阻率可達到15~18MΩ.CM以上。典型工藝流程為：

　　預處理系統－反滲透系統－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過濾器－用水對象 （≥18MΩ.CM）(傳統工藝)

　　預處理－反滲透－中間水箱－第二級反滲透—純水箱—純水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥18MΩ.CM）(最新工藝)

　　預處理－一級反滲透－加藥機（PH調節）－中間水箱－第二級反滲透－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥16MΩ.CM）(最新工藝)

　　預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（≥14MΩ.CM）(最新工藝)

　　預處理系統－反滲透系統－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過濾器－用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)

相關工藝水處理設備圖片：

雙級反滲透+EDI工藝

雙級反滲透+ 混合床+拋光混床運行現場

雙級反滲透(RO)＋EDI設備運行現場